53 Mit einer Entwicklersubstanz von nicht rapidem Charakter kann man in beiden Fällen das Auslangen finden. Bei kurzer Exposition benutzt man eine ver dünnte, nicht zu kalte Lösung, und für lange exponierte Platten eine stärkere, abgekühlte, reichlich mit Bromid versetzte Flüssigkeit. Eine rapid wirkende Entwicklersubstanz ist dagegen bei zu lange belichteten Platten nicht verwendbar, weil sie trotz Bromsalz und Temperaturerniedrigung immer noch viel zu rasch wirkt. Es ist ja eine jedem Praktiker bekannte Tatsache, dass man beispielsweise mit Hydro chinon auch Momentaufnahmen entwickeln kann, dass aber Metol bei etwas lange exponierten Platten ganz unbrauchbar ist. Ein Bromkaliumvorbad bei überbelichteten Platten, wie es häufig empfohlen wird, ist nicht zweckentsprechend, da sich dann im Innern der Schicht eine bromreiche, also langsam wirkende Lösung befindet, welche die Tiefenentwicklung hindert, während oberflächlich der Prozess rasch verläuft. Bei zu langer Exposition sind aber gerade die entgegengesetzten Verhältnisse anzu streben, daher es rationeller ist, die Platte zuerst in einen Normalentwickler zu bringen und dann das Fort schreiten der Oberflächenentwicklung durch sehr reich lichen Bromidzusatz einzuschränken. Auch die Verwendung von bereits mehrmals ge brauchten, also an Oxydationsprodukten reichen Lösungen ist sehr empfehlenswert, doch vermögen sie nicht mehr zu leisten, als langsame Entwickler mit Bromidzusatz. In früherer Zeit war man der Meinung, dass sich durch Änderung des Verhältnisses, in dem die Alkali menge zur reduzierenden Substanz steht, die Eigentüm lichkeiten des Entwicklers wesentlich beeinflussen lassen. Für kurz exponierte Platten sollte viel Alkali und wenig reduzierende Substanz benutzt werden, während bei zu